每經(jīng)編輯 盧祥勇    

15日早間，上證指數(shù)高開0.23%，深證成指漲0.16%，創(chuàng)業(yè)板指跌0.13%。開盤后市場繼續(xù)下探，創(chuàng)業(yè)板低開低走，下破2000點(diǎn)，為2020年4月以來首次。

不過，上午10點(diǎn)國家統(tǒng)計(jì)局發(fā)布8月經(jīng)濟(jì)數(shù)據(jù)，多項(xiàng)數(shù)據(jù)超預(yù)期復(fù)蘇，帶動(dòng)各指數(shù)回升。截至午間收盤，兩市個(gè)股漲多跌少，上證指數(shù)漲0.28%，深證成指上漲0.11%，創(chuàng)業(yè)板指翻紅上漲0.11%。

截至發(fā)稿上證綜指、深證成指和創(chuàng)業(yè)板指年內(nèi)漲幅分別為1.49%、-7.33%、-14.17%。

昨日，在創(chuàng)業(yè)板上市的蘇大維格(300331.SZ)一則自稱“已實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)銷售”的互動(dòng)平臺回復(fù)引爆市場，午后公司股價(jià)“20CM”直線漲停，其熱度沖上榜首。

深交所15日向蘇大維格下發(fā)關(guān)注函，要求說明公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造。

光刻機(jī)引爆“20CM”漲停

14日下午，蘇大維格股價(jià)直線拉升，截至收盤封死20%漲停。15日，蘇大維格低開6.43%，不久后翻紅快速上漲，截至午間收盤大漲13.13%。

消息面上，公司14日在互動(dòng)平臺中稱：“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家的出口；同時(shí)，公司向國內(nèi)相關(guān)芯片光刻機(jī)廠商提供了定位光柵尺部件。”

該消息發(fā)出后，不少投資者直呼蘇大維格是“國產(chǎn)之光”，市場情緒激烈。

據(jù)中國證券報(bào)，蘇大維格證券部相關(guān)工作人員表示，公司銷售的是激光直寫光刻機(jī)，與芯片光刻機(jī)沒有關(guān)系。該工作人員進(jìn)一步解釋稱：“我們把（激光直寫）光刻機(jī)賣給他們，他們在芯片制造中可能會(huì)應(yīng)用到我們的設(shè)備，產(chǎn)品本身不是芯片光刻機(jī)。”

激光直寫光刻機(jī)與投資者理解的芯片光刻機(jī)差距有多遠(yuǎn)？某芯片上市公司高管表示，芯片廠現(xiàn)在用的基本都是掩膜光刻機(jī)，激光直寫光刻技術(shù)受限于激光波長，還無法滿足高端半導(dǎo)體器件制造的需求。

據(jù)財(cái)聯(lián)社報(bào)道，CINNO Research研究總監(jiān)劉雨實(shí)介紹，“蘇大維格的光刻機(jī)是指激光直寫光刻機(jī)，與傳統(tǒng)掩膜光刻相比，激光直寫精度較差但成本也較低，多用于封裝等領(lǐng)域，具有較高的靈活性。”

資料顯示，蘇大維格是國內(nèi)領(lǐng)先的微納結(jié)構(gòu)產(chǎn)品制造和技術(shù)服務(wù)商，主要為客戶提供不同用途微納光學(xué)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)、開發(fā)與制造服務(wù)。公司主要產(chǎn)品為微納光學(xué)產(chǎn)品、反光材料、設(shè)備。

圖片來源：蘇大維格官網(wǎng)截圖

業(yè)績方面，2023年上半年，蘇大維格實(shí)現(xiàn)營收7.88億元，同比下降10.47%；歸母凈利潤1217.69萬元，同比增長784.54%。

截至15日午間收盤，蘇大維格年內(nèi)股價(jià)已漲100%，總市值97億元。

被深交所關(guān)注

蘇大維格15日早間收到深交所關(guān)注函，要求補(bǔ)充披露公司所生產(chǎn)光刻設(shè)備的具體類型、主要客戶及下游用途、以及最近一年一期境內(nèi)外銷售情況，并核實(shí)說明公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造、主要技術(shù)參數(shù)是否與業(yè)內(nèi)龍頭廠商存在較大差距，并進(jìn)一步提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)。  

14日晚，蘇大維格在互動(dòng)易上也再度回應(yīng)了光刻機(jī)相關(guān)問題。

蘇大維格在互動(dòng)平臺表示，在大類上，光刻機(jī)主要有兩種類型。第一類是掩摸光刻機(jī)，如ASLM的EUV設(shè)備，好比“復(fù)印機(jī)”，把掩摸上的圖形投射到硅片上，可用于各類芯片的批量生產(chǎn)，這類光刻機(jī)技術(shù)工藝和材料難度極高。

第二類是無掩摸光刻機(jī)，也稱直寫光刻機(jī)，包括激光直寫光刻機(jī)和電子束光刻機(jī)等，用于直接將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成相關(guān)圖形，好比“打印機(jī)”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微結(jié)構(gòu)的制備。

蘇大維格表示，公司長期從事光刻機(jī)的研制，光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了從自用到銷售給國內(nèi)外科研院所，再到銷售給相關(guān)企業(yè)的發(fā)展路徑。目前，公司對外銷售的光刻機(jī)主要為激光直寫光刻機(jī)，其中在科研教育領(lǐng)域具有一定的知名度和市場占有率，在其他行業(yè)和領(lǐng)域已實(shí)現(xiàn)的銷售金額相對較小，部分應(yīng)用領(lǐng)域離國際先進(jìn)水平具有一定差距，需要持續(xù)的研發(fā)投入；納米壓印光刻領(lǐng)域，公司設(shè)備主要為自用，對外銷售金額與直寫光刻機(jī)相比較小；此外，公司也開發(fā)了投影掃描的光刻設(shè)備，擬應(yīng)用于光伏電鍍銅圖形化領(lǐng)域，目前尚未實(shí)現(xiàn)銷售。

編輯|盧祥勇 易啟江

校對|孫志成

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