每經(jīng)記者 朱成祥 每經(jīng)編輯 文  多

在2021年的缺芯、漲價(jià)影響下，國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體大廠紛紛大幅增加資本開(kāi)支，建廠擴(kuò)產(chǎn)。在轟轟烈烈的建廠潮下，中國(guó)大陸逐漸于2021年第二季度成長(zhǎng)為全球第一大半導(dǎo)體制造設(shè)備市場(chǎng)。

一方面，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造設(shè)備市場(chǎng)逐漸成長(zhǎng)；另一方面，國(guó)內(nèi)芯片制程廠商也開(kāi)始逐漸使用國(guó)產(chǎn)設(shè)備。北方華創(chuàng)（002371，SZ），正是國(guó)內(nèi)產(chǎn)品種類最豐富的半導(dǎo)體設(shè)備廠商。截至12月22日，北方華創(chuàng)的股價(jià)在2021年內(nèi)漲幅接近90%。

受2021年以來(lái)持續(xù)的“缺芯”影響，各大半導(dǎo)體廠商大幅建廠擴(kuò)產(chǎn)。特別是臺(tái)積電宣稱未來(lái)3年內(nèi)將投入1000億美元增加產(chǎn)能。除臺(tái)積電外，三星、英特爾、格芯、中芯國(guó)際等半導(dǎo)體制造企業(yè)均有大規(guī)模投資建廠的計(jì)劃。

受益于半導(dǎo)體擴(kuò)產(chǎn)潮

中國(guó)大陸市場(chǎng)半導(dǎo)體設(shè)備需求尤為火熱，根據(jù)9月7日SEMI發(fā)布的《全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)報(bào)告》，2021年第二季度全球半導(dǎo)體設(shè)備出貨金額達(dá)249億美元，創(chuàng)歷史新高，同比增長(zhǎng)48%。中國(guó)大陸、韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)位列前三：中國(guó)大陸第二季度半導(dǎo)體設(shè)備出貨82.2億美元，同比增長(zhǎng)79%；韓國(guó)第二季度半導(dǎo)體設(shè)備出貨額為66.2億美元，同比增長(zhǎng)48%；中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)第二季度半導(dǎo)體設(shè)備出貨50.4億美元，同比增長(zhǎng)44%。

目前全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)主要由美國(guó)、日本、荷蘭廠商控制。國(guó)內(nèi)廠商方面，主要以北方華創(chuàng)、中微公司、盛美上海為主。晶圓制造過(guò)程主要包括7個(gè)相互獨(dú)立的工藝流程：光刻、刻蝕、薄膜沉積、擴(kuò)散、離子注入、化學(xué)機(jī)械拋光、金屬化。其中，光刻、刻蝕、薄膜沉積為設(shè)備價(jià)值最高的三個(gè)流程，價(jià)值占比之和超過(guò)50%。另外，隨著工藝復(fù)雜度的提高，清洗設(shè)備的重要性也在逐漸提高。

相比中微公司側(cè)重刻蝕，盛美上海側(cè)重清洗，北方華創(chuàng)的產(chǎn)品則覆蓋刻蝕、薄膜沉積和清洗。北方華創(chuàng)在2020年年報(bào)中表示：“公司集成電路先進(jìn)制程多種產(chǎn)品通過(guò)客戶驗(yàn)證，成熟制程設(shè)備工藝覆蓋率快速提升?？涛g機(jī)、PVD、立式爐、清洗機(jī)等產(chǎn)品在集成電路、先進(jìn)封裝主流客戶實(shí)現(xiàn)規(guī)模銷售。”

公司產(chǎn)品種類豐富

國(guó)產(chǎn)廠商已經(jīng)在刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備中占據(jù)部分市場(chǎng)份額。以長(zhǎng)江存儲(chǔ)2021年9月至11月上旬?dāng)?shù)據(jù)為例，其刻蝕設(shè)備主要采購(gòu)自北方華創(chuàng)，共計(jì)2臺(tái)，另有4臺(tái)薄膜沉積設(shè)備采購(gòu)自北方華創(chuàng)。

此案例中，長(zhǎng)江存儲(chǔ)采購(gòu)自北方華創(chuàng)各項(xiàng)設(shè)備的量并非最多，但產(chǎn)品種類確實(shí)最廣，包括薄膜沉積設(shè)備、退火設(shè)備、刻蝕設(shè)備、氧化設(shè)備和爐管設(shè)備，各類產(chǎn)品數(shù)量合計(jì)10多臺(tái)。

根據(jù)東吳證券數(shù)據(jù)，截至2020年12月，半導(dǎo)體設(shè)備中，刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、量檢測(cè)設(shè)備、清洗設(shè)備、離子注入設(shè)備、CMP設(shè)備、涂膠顯影設(shè)備的國(guó)產(chǎn)設(shè)備率分別為7%、8%、2%、20%、2%、10%、7%，而光刻設(shè)備的國(guó)產(chǎn)設(shè)備率仍是0%。

可以看出，薄膜沉積設(shè)備方面，北方華創(chuàng)中標(biāo)的PVD（物理氣相沉積）、CVD（化學(xué)氣相沉積）、ALD（原子層沉積）設(shè)備分別為14臺(tái)、5臺(tái)和1臺(tái)，共計(jì)20臺(tái)；中微公司中標(biāo)的MOCVD（金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積）設(shè)備為1臺(tái)；沈陽(yáng)拓荊中標(biāo)的CVD為24臺(tái)。也就是說(shuō)，在上述時(shí)間段中，北方華創(chuàng)在薄膜沉積設(shè)備銷量方面僅次于沈陽(yáng)拓荊，在國(guó)產(chǎn)廠商中排名第二。

清洗設(shè)備方面，北方華創(chuàng)中標(biāo)的濕法清洗設(shè)備為13臺(tái)。而芯源微、盛美上海、屹唐半導(dǎo)體中標(biāo)的濕法清洗設(shè)備分別為8臺(tái)、14臺(tái)和2臺(tái)。即北方華創(chuàng)在上述時(shí)間段中，于國(guó)產(chǎn)清洗設(shè)備廠商中銷量排名第二，僅次于盛美上海。