每日經(jīng)濟(jì)新聞 2025-03-28 15:39:05
在SEMICON China 2025展會(huì)現(xiàn)場(chǎng),深圳新凱來(lái)工業(yè)機(jī)器有限公司推出覆蓋半導(dǎo)體制造多個(gè)核心流程的工藝裝備與量檢測(cè)裝備矩陣。這家企業(yè)已形成滿足邏輯、DRAM、NAND產(chǎn)品制造需求的產(chǎn)品矩陣,并支持從PlanarFET到GAAFET的工藝演進(jìn)。
每經(jīng)記者 朱成祥 每經(jīng)編輯 梁梟
3月27日,在SEMICON China 2025展會(huì)現(xiàn)場(chǎng),深圳新凱來(lái)工業(yè)機(jī)器有限公司(以下簡(jiǎn)稱新凱來(lái))的展位頗受關(guān)注。這家半導(dǎo)體裝備廠商覆蓋半導(dǎo)體制造多個(gè)核心流程的工藝裝備、量檢測(cè)裝備矩陣。
半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)并非一朝一夕之功,而新凱來(lái)已經(jīng)形成產(chǎn)品矩陣,滿足邏輯、DRAM(內(nèi)存)、NAND(閃存)產(chǎn)品的制造,并支持PlanarFET(場(chǎng)效應(yīng)晶體管)、FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)向GAAFET(全環(huán)繞柵極晶體管)工藝演進(jìn)。
圖片來(lái)源:每經(jīng)記者 朱成祥 攝
根據(jù)頭豹研究院,半導(dǎo)體設(shè)備可分為前道設(shè)備和后道設(shè)備,前道設(shè)備主要用于晶圓制造,涉及硅片加工、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、清洗、拋光、金屬化等工藝,所對(duì)應(yīng)的核心專用設(shè)備包括光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、離子注入設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、機(jī)械拋光設(shè)備、測(cè)量設(shè)備等,其中光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備是半導(dǎo)體前道生產(chǎn)工藝中的三大核心設(shè)備。
根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI),前道設(shè)備(晶圓制造)投資量占半導(dǎo)體設(shè)備投資量約80%,封裝和測(cè)試設(shè)備占比分別約為10%和8%。在晶圓制造設(shè)備中,刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備和光刻機(jī)分別占前道設(shè)備價(jià)值量的22%、22%和17%。
此次新凱來(lái)推出的“工藝設(shè)備”中,就包括刻蝕設(shè)備和薄膜沉積設(shè)備。新凱來(lái)將其刻蝕設(shè)備命名為“武夷山”,產(chǎn)品包括武夷山1號(hào)、武夷山3號(hào)和武夷山5號(hào)。
其薄膜設(shè)備覆蓋了CVD(化學(xué)氣相沉積)、PVD(物理氣相沉積)和ALD(原子層沉積)三大主要薄膜沉積設(shè)備。其中CVD有長(zhǎng)白山1號(hào)和長(zhǎng)白山3號(hào);PVD有普陀山1號(hào)、普陀山2號(hào)和普陀山3號(hào);ALD有阿里山1號(hào)、阿里山2號(hào)和阿里山3號(hào)。
除了兩大核心設(shè)備外,新凱來(lái)也推出外延生長(zhǎng)設(shè)備(EPI)和RTP(快速熱處理設(shè)備),EPI包括峨眉山1號(hào)、峨眉山2號(hào)和峨眉山3號(hào);RTP包括三清山1號(hào)、三清山2號(hào)和三清山3號(hào)。
SEMICON China 2025展會(huì)現(xiàn)場(chǎng) 圖片來(lái)源:每經(jīng)記者 朱成祥 攝
根據(jù)頭豹研究院,整體上,我國(guó)在去膠、清洗、刻蝕設(shè)備方面國(guó)產(chǎn)化率較高,在CMP、熱處理、薄膜沉積上近幾年國(guó)產(chǎn)化突破明顯,而在量測(cè)、涂膠顯影、光刻、離子注入等設(shè)備上,仍較為薄弱。
此次新凱來(lái)推出的產(chǎn)品中,光學(xué)量測(cè)產(chǎn)品包括天門山DBO(衍射套刻量測(cè))、天門山IBO(圖形套刻量測(cè));PX(物理和X射線)量測(cè)產(chǎn)品包括沂蒙山AFM(原子力顯微鏡量測(cè))、赤壁山XP XPS(X射線光電子能譜量測(cè))、赤壁山XD XRD(X射線衍射量測(cè))和赤壁山XF XRF(X射線熒光光譜量測(cè));功率檢測(cè)產(chǎn)品包括RATE-CP(晶圓電性能檢測(cè))、RATE-KGD(功率Die電性能檢測(cè))和RATE-FT(功率單管和模組電性能電測(cè))。
值得一提的是,此次新凱來(lái)推出的EPI,也是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭中微公司、北方華創(chuàng)的發(fā)力方向。
北方華創(chuàng)(002371.SZ,股價(jià)415.9元,市值2220.5億元)2023年年報(bào)顯示:“外延(EPI)設(shè)備是材料生長(zhǎng)的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、功率半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域。截至2023年底,北方華創(chuàng)已發(fā)布20余款量產(chǎn)型外延設(shè)備,累計(jì)出貨超1000腔。公司自主研發(fā)的12英寸常壓硅外延設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了對(duì)邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片、功率器件及特色工藝的全覆蓋,且已全部成功量產(chǎn),成為客戶的基線產(chǎn)品。”
中微公司(688012.SH,股價(jià)184.31元,市值1147.08億元)早在2023年2月的投資者關(guān)系活動(dòng)記錄表中就表示:“(公司)有超過十年做單晶硅外延設(shè)備的經(jīng)驗(yàn),所以我們現(xiàn)在緊鑼密鼓開發(fā)在硅和鍺硅方面在集成電路需要的EPI設(shè)備。因?yàn)槲覀冇虚L(zhǎng)足的薄膜設(shè)備經(jīng)驗(yàn),我們有信心能開發(fā)出很好的EPI設(shè)備。”另?yè)?jù)中微公司2024年業(yè)績(jī)快報(bào):“公司EPI設(shè)備已順利進(jìn)入客戶端量產(chǎn)驗(yàn)證階段。”
此外,中微公司也在積極拓展量檢測(cè)業(yè)務(wù)。中微公司2024年12月公告顯示:“隨著微觀器件越做越小,檢測(cè)設(shè)備也成為更關(guān)鍵的設(shè)備,市場(chǎng)增長(zhǎng)速度很快,成為占半導(dǎo)體前道設(shè)備總市場(chǎng)約11%的第四大設(shè)備門類。檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)主要分為光學(xué)檢測(cè)設(shè)備和電子束檢測(cè)設(shè)備,其中公司已通過投資布局了光學(xué)檢測(cè)設(shè)備板塊,而超微公司(中微公司控股子公司)計(jì)劃開發(fā)電子束檢測(cè)設(shè)備,將不斷擴(kuò)大對(duì)多種檢測(cè)設(shè)備的覆蓋。電子束量檢測(cè)設(shè)備是芯片制造和先進(jìn)封裝工藝過程良率控制的關(guān)鍵設(shè)備,對(duì)我國(guó)發(fā)展以人工智能為代表的新質(zhì)生產(chǎn)力至關(guān)重要,是我國(guó)的短板之一,亟待實(shí)現(xiàn)零的突破。”
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